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凌嘉科技股份有限公司的专利信息
| 序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
| 1 | TWM522459 | 极间式靶材阴极装置 | 2016.05.21 | 极间式靶材阴极装置包含一主要磁铁单元、一靶材及一辅助磁铁单元。主要磁铁单元包括一外环磁铁组件与一具反 |
| 2 | TW200300338 | 鞋材电浆胶合处理方法 | 2003.06.01 | 本发明系提供一种鞋材电浆胶合处理方法，其系为提高用鞋材胶合处理后的胶合效果，本发明大体上系依据：(1 |
| 3 | CN206040608U | 用于生产线的可移动式载盘装置 | 2017.03.22 | 一种用于生产线的可移动式载盘装置，是用于承载一待处理基板并于一生产线中的一传送机构上移动，其包含一金 |
| 4 | CN106128986A | 用于生产线的可移动式载盘装置 | 2016.11.16 | 一种用于生产线的可移动式载盘装置，是用于承载一待处理基板并于一生产线中的一传送机构上移动，其包含一金 |
| 5 | CN205590792U | 极间式靶材阴极装置 | 2016.09.21 | 一种极间式靶材阴极装置，包含一个主要磁铁单元、一个靶材及一个辅助磁铁单元。主要磁铁单元包括一个外环磁 |
| 6 | TWI531671 | 具有载盘冷却功能的镀膜系统 | 2016.05.01 | 明提供一种具有载盘冷却功能的镀膜系统，包含一包括一盘本体与一填置于盘本体中的相变化物质的载盘、一镀膜 |
| 7 | TWI530578 | 自冷式移动式镀膜承载盘 | 2016.04.21 | 明提供一种自冷式移动式镀膜承载盘，包含：一载盘单元，及一相变化物质。该载盘单元内部形成有一密闭空间。 |
| 8 | TWI522487 | 双门闸阀装置及具双门闸阀装置的镀膜设备 | 2016.02.21 | 双门闸阀装置包含一基座、二闸门单元，及一输送单元。该基座包括一环腔壁、一位于该环腔壁一端且具有一入阀 |
| 9 | TWI513840 | 多层膜的量产方法 | 2015.12.21 | |
| 10 | CN104928645A | 双门闸阀装置及具双门闸阀装置的镀膜设备 | 2015.09.23 | 一种双门闸阀装置包含一个基座、两个闸门单元，及一个输送单元。该基座包括一个环腔壁、一个位于该环腔壁一 |
| 11 | CN204644462U | 连续型同步镀膜设备 | 2015.09.16 | 一种连续型同步镀膜设备，包含：一个真空腔体、n个阴极溅镀靶组合、多个载具，及一个传输机构。该真空腔体 |
| 12 | CN204644457U | 磁性靶材装置 | 2015.09.16 | 一种磁性靶材装置，包含一个由非磁性金属制成的背板，及一个由磁性金属制成的溅镀靶。该溅镀靶包括一个设置 |
| 13 | TWM508109 | 磁性靶材装置 | 2015.09.01 | |
| 14 | CN204570025U | 真空镀膜系统的阴极装置 | 2015.08.19 | 一种真空镀膜系统的阴极装置，包含一个磁座单元、数个磁铁、一个散热单元、一个靶材单元及一片高导磁薄片。 |
| 15 | CN103094048B | 可位移调整磁控管的装置 | 2015.08.19 | 一种可位移调整磁控管的装置，包含一个基座单元、至少一个固设在该基座单元一侧的靶材单元、一个安装在该基 |
| 16 | CN104818467A | 自冷式移动式镀膜承载盘 | 2015.08.05 | 本发明提供一种自冷式移动式镀膜承载盘，包含：一载盘单元，及一相变化物质。该载盘单元内部形成有一密闭空 |
| 17 | CN104818469A | 具有载盘冷却功能的镀膜系统 | 2015.08.05 | 一种具有载盘冷却功能的镀膜系统，包含一包括一盘本体与一填置于盘本体中的相变化物质的载盘、一镀膜站、一 |
| 18 | TWM505503 | 真空溅镀靶材的冷却装置 | 2015.07.21 | |
| 19 | TWM502694 | 真空镀膜系统的阴极装置 | 2015.06.11 | |
| 20 | CN104651798A | 多层膜的量产方法 | 2015.05.27 | 多层膜的量产方法包含：(a)提供具(n+1)个缓冲区间、n个镀膜区间及多个载具的镀膜生产线，缓冲区间 |
| 21 | TWM499418 | 连续型同步镀膜设备 | 2015.04.21 | |
| 22 | CN203947157U | 凹型溅镀装置 | 2014.11.19 | 一种凹型溅镀装置包含一个外壳座单元、一个设于外壳座单元中且呈凹型的冷却载座、一个磁石组、一个阴极靶及 |
| 23 | CN103094048A | 可位移调整磁控管的装置 | 2013.05.08 | 一种可位移调整磁控管的装置，包含一个基座单元、至少一个固设在该基座单元一侧的靶材单元、一个安装在该基 |
| 24 | CN101892452B | 在塑料工件上形成电磁干扰防护层的方法 | 2012.12.26 | 一种在塑胶工件上形成电磁干扰防护层的方法，包含以下步骤：于一个被设置在一个治具的塑胶工件的一内表面电 |
| 25 | CN201785485U | 真空电引入装置 | 2011.04.06 | 一种真空电引入装置，用于安装在一个真空腔体，该真空腔体包括一个腔壁、一个真空侧及一个大气侧，该真空电 |
| 26 | CN201788937U | 用于电浆表面处理的高密度电极装置 | 2011.04.06 | 一种用于电浆表面处理的高密度电极装置包含一个阳极单元、一个阴极单元、一片绝缘板及一个冷却回路。该阳极 |
| 27 | CN101892452A | 在塑胶工件上形成电磁干扰防护层的方法 | 2010.11.24 | 一种在塑胶工件上形成电磁干扰防护层的方法，包含以下步骤：于一个被设置在一个治具的塑胶工件的一内表面电 |
| 28 | CN201648508U | 水平步进式溅镀设备 | 2010.11.24 | 一种水平步进式溅镀设备，包含一个具有一个入口、一个出口、至少一个溅镀腔室与至少一个设置于所述溅镀腔室 |
| 29 | TWM375711 | 快拆式内传输框架结构改良 | 2010.03.11 | 一种快拆式内传输框架结构改良，其系于一应用于真空溅镀之腔体内设置一框架，该框架系由若干副框架组，各该 |
| 30 | TWM375082 | 内传输转轴单元快拆结构改良 | 2010.03.01 | 一种内传输转轴单元快拆结构改良，其系针对真空溅镀设备用以输送载盘之若干转轴单元加以改良，该等转轴单元 |
| 31 | CN201338991Y | 非导电性基材上高电阻抗高光泽金属结构 | 2009.11.04 | 一种非导电性基材上高电阻抗高光泽金属结构，包括一非导电性基材和一光泽层，其中，所述非导电性基材的表面 |
| 32 | CN201272827Y | 一种内传输轮轨导引结构 | 2009.07.15 | 本实用新型公开了一种内传输轮轨导引结构，其在一应用于真空溅镀的腔体内设置框架，该框架二侧枢组有若干轮 |
| 33 | CN201272828Y | 一种内传输转轴单元快拆结构 | 2009.07.15 | 本实用新型公开了一种内传输转轴单元快拆结构，包含应用于真空溅镀的框架，以及多个枢固于该框架上的转轴单 |
| 34 | CN201272829Y | 一种定点锁固式内传输框架结构 | 2009.07.15 | 本实用新型提供了一种定点锁固式内传输框架结构，该结构在真空溅镀作业的腔体内锁固一框架，且该框架锁固于 |
| 35 | CN201272830Y | 一种快拆式内传输框架结构 | 2009.07.15 | 本实用新型提供了一种快拆式内传输框架结构，该结构在真空溅镀的腔体内设置了一个框架，该框架由若干副框架 |
| 36 | TW200820888 | 电磁波防护层 | 2008.05.01 | 本发明系揭露一种防护层,尤指一种电磁波防护层,包括一基材,在该基材上以堆叠的方式镀上一层金属膜,最后 |
| 37 | TWM313308 | 发光二极体载体结构 | 2007.06.01 | 一种发光二极体载体结构，包括一基板，一反射层及一发光二极体阵列，其反射层配置于基板上，而发光二极体阵 |
| 38 | TW200517248 | TPU基材上溅镀成形金属之方法 | 2005.06.01 | 本发明系一种TPU基材上溅镀成形金属之方法，TPU基材上溅镀成形金属之方法，其流程系在诸如TPU的基 |
| 39 | CN1549298A | 电晕处理设备 | 2004.11.24 | 一种电晕处理设备，其为改善以往电浆表面处理设备成本过高、表面处理效果有限的问题；本发明解决是将一个高 |
| 40 | TW200421684 | 电晕处理设备 | 2004.10.16 | 本发明系提供一种电晕处理设备，其系为改善以往电浆表面处理设备成本过高、表面处理效果有限的问题者；本发 |
| 41 | TWI221689 | 电晕处理设备 | 2004.10.01 | 本发明系提供一种电晕处理设备，其系为改善以往电浆表面处理设备成本过高、表面处理效果有限的问题者;本发 |
| 42 | TW559326 | 具多涂层之按键结构 | 2003.10.21 | 本创作系关于一种具多涂层之按键结构，主要由一按键、一彩色涂层、一金属层与一上涂层所共同组成；其中，该 |
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